本专利技术通过设备装置的功能性组合，解决现有废水处理技术占地面积大，固定投资大的问题；具有适用性广、费用低廉、安装容易、维护简单的特点；应用于工业企业产生的含有不溶性污染物的废水处理。
本专利技术提供的碳化硅陶瓷分离膜孔径及孔径分布可以通过多孔氧化物陶瓷基体以及包含过渡膜层的基体的孔径及孔径分布进行调节；易于制得孔径小于100nm的碳化硅陶瓷分离膜；通过将物理气相沉积在基体上形成的碳化硅膜层放入真空或惰性气氛进行热处理，可避免碳化硅膜出现氧化，使得碳化硅膜层从无定型生长成为晶体，从而提高碳化硅膜层与基体的结合强度。在食品工业、水处理、生物技术、医药工业和医疗设备、环保和能源等领域中有着非常广泛的应用。
本专利技术在氧化锡超滤膜预制体进行高温煅烧时，氧化铝过渡涂层和氧化锡膜层界面上的氧化铝颗粒和氧化锡颗粒能充分发生反应，从而使氧化锡膜层和氧化铝过渡层之间具有较高的结合强度，不会剥离；技术膜涂层质量高，均匀性好，不容易产生流挂现象；技术镀膜液的利用效率高，可减少浪费和环境污染；可有效应用在食品工业、生物医药、环保或能源领域的分离中。
